Galeria

Poniżej przedstawiono kilka obrazków uzyskanych z naszych symulacji. Zdjęcia umieszczone na stronie mają małą rozdzielczość. Aby oglądnąć zdjęcie lepszej jakości naciśnij na ikonę danego obrazka.

Okładki czasopism i książek naukowych z naszą grafiką i artykułem przeglądowym

Rozpylanie - wizje artystyczne

Rozpylanie zestalonych gazów

70 eV Ar -> Ar{111}

Nawet pociski o tak niewielkiej energii kinetycznej mogą efektywnie rozpylać zestalony argon.

1 keV Ar -> Ar{111}

Widok z boku na wycinek kryształu o grubości 1,5nm.

Widok z góry. Obrazki są pokolorowane w zależności od głębokości na której znajdują się atomy. Skala kolorów rozciąga się od czerwonego (głębokość <4nm i poniżej, do ciemnoniebieskiego (>3nm ponad powierzchnią)

Bombardowanie powierzchni kryształu Ar{111} pociskiem 1 keV Ar prowadzi do emisji ogromnej liczby atomów i do utworzenia makroskopowego krateru. Jest to spowodowane przez bardzo małą energię wiązania atomów w krysztale zestalonego argonu.

Rozpylanie metali

4 keV Ar -> Ag{111}

Na zewnątrz emitowane są przede wszystkim atomy znajdujące się pierwotnie w ostatnich warstwach kryształu.

Na zewnątrz emitowane są przede wszystkim atomy znajdujące się pierwotnie w ostatnich warstwach kryształu.

Porównanie procesu rozpylania Ag(111) pociskami Ga i C60

Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga.

Obrazki zostały zarejestrowane dla 0,0, 3,0 i 7,5 ps. Kolory oznaczają początkowe położenia atomu w odpowiedniej warstwie (niebieski - 1, 2 warstwa, czerwony -3, 4 warstwa, zielony - 5, 6 warstwa, jasnoniebieski - 7, 8 warstwa)

Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga.
Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga.
Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga.
Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga.
Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV C60.

Obrazki zostały zarejestrowane dla 0,0, 3,0 i 7,5 ps.

Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV C<sub>60</sub>.
Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV C<sub>60</sub>.
Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV C<sub>60</sub>.
Rozpylanie powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV C<sub>60</sub>.

Uderzenie Ga prowadzi do mniejszej emisji cząstek, równocześnie powodując znacznie większe uszkodzenie kryształu w porównaniu z C60. Zwiększenie energii kinetycznej pocisku C60 powoduje utworzenie większego krateru. Jednak krater rośnie przede wszystkim przez zwiększanie swojej średnicy a nie głębokości.

Uderzenie Ga prowadzi do mniejszej emisji cząstek, równocześnie powodując znacznie większe uszkodzenie kryształu w porównaniu z C<sub>60</sub>
Zwiększenie energii kinetycznej pocisku C<sub>60</sub> powoduje utworzenie większego krateru. Jednak krater rośnie przede wszystkim przez zwiększanie swojej średnicy a nie głębokości.

Emisja molekuł organicznych stymulowana uderzeniem pocisków klastrowych

Całe molekuły są emitowane w wyniku działania mechanizmu katapultowego.

Przykłady

Rozpylanie molekuły PS61 zaadsorbowanej na powierzchni Ag{111} pociskiem 20 keV C60.

Obrazki są zarejestrowane dla czasów 0,0, 3,0 i 7,5 ps.

Rozpylanie molekuł PS4 zaadsorbowanych na powierzchni Ag{111} pociskiem 20 keV C60.

Obrazki są zarejestrowane dla czasów 0,0, 3,0 i 7,5 ps.

Emisja molekuł z cienkich warstw organicznych stymulowana uderzeniem monoatomowego pocisku

Molekuły organiczne związane z powierzchnią siłami fizysorpcji są głownie emitowane w wyniku zderzeń z rozpylanymi cząstkami podłoża. Zaobserwowano występowanie dwóch mechanizmów prowadzących do emisji całych molekuł:

a) molekuła jest uderzona przez pojedynczy atom podłoża

Molekuła jest uderzona przez pojedynczy atom podłoża.<br>Ten mechanizm występuje we wczesnych stadiach rozpylania i prowadzi do emisji molekuł o większych energiach kinetycznych

Ten mechanizm występuje we wczesnych stadiach rozpylania i prowadzi do emisji molekuł o większych energiach kinetycznych

b) molekuła jest uderzona równocześnie przez kilka atomów

Molekuła jest uderzona równocześnie przez kilka atomów.<br>Ten mechanizm występuje w późniejszych stadiach rozpylania i prowadzi do emisji molekuł o małych energiach kinetycznych.

Ten mechanizm występuje w późniejszych stadiach rozpylania i prowadzi do emisji molekuł o małych energiach kinetycznych.

Przykłady:

Rozpylanie molekuł PS4 zaadsorbowanych na powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie molekuł PS4 zaadsorbowanych na powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie molekuł PS4 zaadsorbowanych na powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie molekuł PS4 zaadsorbowanych na powierzchni Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie cienkiej warstwy benzenu osadzonej na podłożu Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie cienkiej warstwy benzenu osadzonej na podłożu Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie cienkiej warstwy benzenu osadzonej na podłożu Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie cienkiej warstwy benzenu osadzonej na podłożu Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie cienkiej warstwy benzenu osadzonej na podłożu Ag{111} pociskiem 15 keV Ga
Rozpylanie cienkiej warstwy benzenu osadzonej na podłożu Ag{111} pociskiem 4 keV Ar

Powierzchnia multiwarstwy benzenu przed uderzeniem jonem 4 keV Ar

Powierzchnia multiwarstwy benzenu przed uderzeniem jonem 4 keV Ar

Sekwencja rozpylania warstwy benzenu o grubości 3L jonem Ar o energii kinetycznej 4 keV. Widok z góry.

Sekwencja rozpylania warstwy benzenu o grubości 3L jonem Ar o energii kinetycznej 4 keV (Widok z góry) - 0 ps
Sekwencja rozpylania warstwy benzenu o grubości 3L jonem Ar o energii kinetycznej 4 keV (Widok z góry) - 3 ps
Sekwencja rozpylania warstwy benzenu o grubości 3L jonem Ar o energii kinetycznej 4 keV (Widok z góry) - 6 ps
Sekwencja rozpylania warstwy benzenu o grubości 3L jonem Ar o energii kinetycznej 4 keV (Widok z góry) - 9 ps

Poprzeczny zasięg zniszczeń generowanych w warstwie organicznej uderzeniem jonu Ar+

Poprzeczny zasięg zniszczeń generowanych w warstwie organicznej uderzeniem jonu Ar<sup>+</sup><br>Molekuły ostatniej warstwy oznaczono kolorem pomarańczowym. Molekuły pośredniej warstwy oznaczono kolorem fioletowym, zaś molekuły sąsiadujące z powierzchnią metalu oznaczono kolorem czerwonym. Ujęcie uzyskano 13 ps po uderzeniu pocisku.

Molekuły ostatniej warstwy oznaczono kolorem pomarańczowym. Molekuły pośredniej warstwy oznaczono kolorem fioletowym, zaś molekuły sąsiadujące z powierzchnią metalu oznaczono kolorem czerwonym. Ujęcie uzyskano 13 ps po uderzeniu pocisku.

Rozpylanie cienkiej warstwy benzenu osadzonej na podłożu Ag{111} pociskiem C60

Klaster C60 tuż przed uderzeniem w powierzchnię warstwy benzenu o grubości 3 ML

Klaster C<sub>60</sub> tuż przed uderzeniem w powierzchnię warstwy benzenu o grubości 3 ML.

Krater wytworzony uderzeniem pocisku 20 keV C60 w warstwę organiczną benzenu o grubości 3ML.

Krater wytworzony uderzeniem pocisku 20 keV C<sub>60</sub> w warstwę organiczną benzenu o grubości 3ML.<br>Kolory atomów oznaczają głębokość. Atomy czerwone leżą najwyżej a niebieskie najniżej.

Kolory atomów oznaczają głębokość. Atomy czerwone leżą najwyżej a niebieskie najniżej.

Porzeczny zasięg zniszczeń generowanych w warstwie organicznej uderzeniem jonu C60

Poprzeczny zasięg zniszczeń generowanych w warstwie organicznej uderzeniem jonu C<sub>60</sub>.<br>Uderzenie pocisku C60 tworzy na powierzchni duży obszar, z którego usunięte są molekuły benzenu. Część z tych molekuł została wyemitowana, a część przesunięta w zewnętrzne obszary powierzchni.

Uderzenie pocisku C60 tworzy na powierzchni duży obszar, z którego usunięte są molekuły benzenu. Część z tych molekuł została wyemitowana, a część przesunięta w zewnętrzne obszary powierzchni.

Rozpylanie grubego kryształu benzenu pociskiem 500 eV C60.


Obrazki z symulacji komputerowych wykonano przy użyciu programów: gOpenMol oraz PovRay.